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      行業(yè)新聞
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      ZYGO 激光干涉儀重點應用行業(yè)測量方案清單

      日期:2025年11月15日  點擊數(shù):載入中...

      半導體與光刻行業(yè)

      重要測量需求

      適配光刻機關(guān)鍵部件、晶圓制造、大尺寸光柵及基板的超高精度面形檢測,需滿足工作姿態(tài)下的穩(wěn)定計量,同時保障昂貴脆弱樣品的測量安全。

      解決方案

      • 采用立式拼接平面干涉儀(DWS 系列),以 485mm 子孔徑實現(xiàn)750mm×750mm 范圍的拼接測量,精確匹配長矩形等非圓口徑工件需求。
      • 整合標定技術(shù)與 ROF 環(huán)紋抑制技術(shù),搭配 QPSI 抗振移相技術(shù),在工業(yè)環(huán)境中仍能輸出納米級面形精度數(shù)據(jù),支持光刻機微晶工件臺的精確校準。
      • 配備大尺寸樣品載入平臺,確保樣品放置過程穩(wěn)定可靠,避免測量過程中對精密部件造成損傷。

      二、航空航天與紅外領(lǐng)域

      重要測量需求

      覆蓋近紅外(NIR)至長波紅外(LWIR)多波段測量,滿足夜視系統(tǒng)、紅外熱成像設(shè)備、遙感望遠鏡等產(chǎn)品的設(shè)計波長下計量需求。

      解決方案

      • 提供全波段紅外干涉儀系統(tǒng),支持 1.053μm、1.55μm、3.39μm、10.6μm 等多波長適配,實現(xiàn) “以設(shè)計波長測試” 的精確計量。
      • 搭載 QPSI 抗振數(shù)據(jù)采集技術(shù),部分型號可選配 Dyna Phase 瞬時數(shù)據(jù)采集功能,在振動干擾明顯的環(huán)境中仍能獲取穩(wěn)定測量結(jié)果。
      • 配備專屬紅外參考光學元件(透射球、透射平晶)與波長對齊視圖功能,簡化紅外測試系統(tǒng)與部件的搭建流程,提升校準效率。

      三、消費電子行業(yè)

      重要測量需求

      滿足手機鏡頭、顯示面板、精密結(jié)構(gòu)件的批量生產(chǎn)質(zhì)檢,需兼顧測量速度、精度與環(huán)境適應性,適配不同尺寸、材質(zhì)的工件檢測。

      解決方案

      • 采用 ZMI?系列雙頻激光干涉儀(如 7702 型號),激光波長穩(wěn)定在 632.8nm,測量精度達 1nm,分辨率達 λ/100,精確檢測曲面輪廓與平面平整度。
      • 設(shè)備支持相位模式與強度模式切換,光束直徑可適配 6mm 至 25mm 范圍,無需頻繁更換配件即可完成不同規(guī)格產(chǎn)品檢測。
      • 具備快速啟動特性(開機至激光輸出≤70 秒)與 USB 2.0 便捷接口,可快速融入生產(chǎn)線質(zhì)檢流程,滿足批量檢測的高效需求。

      四、醫(yī)療光學行業(yè)

      重要測量需求

      針對人工晶體、角膜塑形鏡等精密醫(yī)療器件,需實現(xiàn)微米級參數(shù)測量,保障產(chǎn)品安全性與臨床適配性。

      解決方案

      • 依托氦氖激光光源的高穩(wěn)定性(波長穩(wěn)定性≤0.0001nm),實現(xiàn)醫(yī)療光學元件表面形貌與光學性能的高精度表征。
      • 采用高分辨率成像系統(tǒng),配合相干偽影減少系統(tǒng)(CARS),將測量相干噪聲降低 10 倍,避免微小誤差影響醫(yī)療器件性能判斷。
      • 設(shè)備工作溫度范圍覆蓋 - 20°C 至 50°C,可適配實驗室校準與生產(chǎn)現(xiàn)場質(zhì)檢等多場景,支持醫(yī)療器件全生命周期的質(zhì)量管控。

      五、精密機械與科研儀器領(lǐng)域

      重要測量需求

      滿足大型精密設(shè)備裝配校準、科研級光學元件研發(fā)、特殊材料表征等多樣化需求,兼顧測量范圍、精度與操作靈活性。

      解決方案

      • 提供從生產(chǎn)級到最高分辨率商用干涉儀的全系列產(chǎn)品,其中 Verifire HD/HDX 系列搭載 530 萬至 1160 萬像素相機,具備優(yōu)越的中頻信息表征能力。
      • 采用 ZYGO 儀器傳遞函數(shù)(ITF)驗證技術(shù),確保設(shè)備像素級測量性能,精確捕捉高斜率表面偏差等細節(jié)特征。
      • 支持模塊化配置與靈活擴展,可根據(jù)科研或生產(chǎn)需求選配不同測量組件,適配從微小光學元件到大型設(shè)備部件的全尺寸測量場景。

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